檢索結果：共4筆資料 檢索策略： "Lithography".ekeyword (精準) and year="104"
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傳統的全像術曝光系統因其反射鏡限制了其週期大小與曝光面積，為了克服此問題，本論文採用兩條光纖取代原有的反射鏡及擴束器，並利用光纖可彎曲的特性，改良全像干涉曝光系統的光路，使其曝光面積較不受干涉圖案週…
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熱壓式奈米壓印微影技術僅需先使用電子束微影技術製作出所需要的模具，即可以快速且重複使用製作出奈米等級的結構，如此一來，可以省去傳統技術用來製作光柵所花費的較長時間與昂貴的設備成本。 本論文以熱壓式奈…
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本實驗分為兩個部分，第一部份利用原子轉移自由基聚合(Atom Transfer Radical Polymerization, ATRP)於圖案化矽晶圓製備表面起始聚甲基丙烯酸N,N-二甲氨基乙酯(…
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由於下一代微影技術的延遲，對於現今10 奈米的製程節點，多 圖樣微影技術仍然是突破微影極限的主要方案。在本篇論文中，我們 提出一個保證連通層可分解性之三圖樣微影感知的細部繞線器。在此 研究中，繞線器…